Gate-tunable ultrahigh photoresponsivity of 2D heterostructures based on few layer MoS2 and solution-processed rGO

Publikation: Bidrag til tidsskrift › Tidsskriftartikel › Forskning › fagfællebedømt

  • Juehan Yang
  • Nengjie Huo
  • Yan Li
  • Xiang-Wei Jiang
  • Tao Li
  • Renxiong Li
  • Fangyuan Lu
  • Chao Fan
  • Bo Li
  • Kasper Nørgaard
  • Laursen, Bo Wegge
  • Zhongming Wei
  • Jingbo Li
  • Shu-Shen Li
OriginalsprogEngelsk
Artikelnummer1500267
TidsskriftAdvanced Electronic Materials
Vol/bind1
Udgave nummer10
Antal sider8
ISSN2199-160X
DOI
StatusUdgivet - 2015

ID: 152957463